六氟化钨
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六氟化钨

化学式:WF6

纯度规格:6N

用途:沉积

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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产品详情

高纯六氟化钨主要应用于大规模集成电路化学气相沉积工艺,,其沉积形成的钨导体膜可用作通孔和接触孔的互连线,,,具有低电阻、、高熔点的特点,,,纯度一般需要达到5N,,,公司已实现6N级六氟化钨的量产,,,,凭借优异的产品品质,,,多年来稳定供应境内外集成电路和显示面板知名客户,,,,客户覆盖广泛。。

以品质为基石,,,开拓全球市场

目前,,,美舟电力公司拥有单条年产能超过3000吨的高纯三氟化氮气体生产线,,,拥有高纯六氟化钨规模化生产线,,拥有三氟甲磺酸系列产品研发生产基地,,,,建设了高纯钨制品中试生产线,,,实现了企业大宗制气的技术突破,,,已成为国内特气行业产品系列丰富、、生产能力大、、、市场覆盖面和占有率高、、、、持续创新能力强的企业。。。。

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公司主要从事电子特种气体及三氟甲磺酸系列产品的研发、、、生产和销售,,主要产品包括高纯三氟化氮、、高纯六氟化钨、、、、高纯氯化氢、、、高纯氟化氢、、高纯四氟化硅、、高纯氘气、、、、高纯六氟丁二烯、、、、高纯八氟环丁烷、、、、高纯电子混合气等电子特种气体,,,,以及三氟甲磺酸、、三氟甲磺酸酐、、、双(三氟甲磺酰)亚胺锂等含氟新材料。。。。


三氟化氮

化学式:NF3

纯度规格:5N

主要用途:清洗、、、、刻蚀

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、、 显示面板


六氟化钨

化学式:WF6

纯度规格:6N

用途:沉积

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


氯化氢

化学式:HCl

纯度规格:5N

用途:清洗、、刻蚀

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


氟化氢

化学式:HF

纯度规格:5N

用途:清洗、、、、刻蚀

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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